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    188宝金博页面版: VACUUM HEATING FURNACE

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    内容提示： (2) JP 2021-96069 A 2021.6.241020304050【特許請求の範囲】【請求項１】　開口を有する真空容器と、　前記開口を開閉する扉と、　前記真空容器内の雰囲気ガスを排出する真空ポンプと、　加熱源に接触して加熱され、前記真空容器内で熱放射する輻射面を有する輻射体とを有し、　少なくとも前記輻射体の前記加熱源に接している面と反対の面に形成される輻射面上で、　前記加熱源と接触している領域に相当する第１輻射面に高輻射層が形成された真空加熱炉であって、　前記加熱源が前記真空容器内に設けられ、前記真空容器の内壁面にも高輻射層が形成されて...

    文档格式：PDF | 页数：14 | 浏览次数：20 | 上传日期：2023-08-19 13:31:48 | 文档星级：
    (2) JP 2021-96069 A 2021.6.241020304050【特許請求の範囲】【請求項１】　開口を有する真空容器と、　前記開口を開閉する扉と、　前記真空容器内の雰囲気ガスを排出する真空ポンプと、　加熱源に接触して加熱され、前記真空容器内で熱放射する輻射面を有する輻射体とを有し、　少なくとも前記輻射体の前記加熱源に接している面と反対の面に形成される輻射面上で、　前記加熱源と接触している領域に相当する第１輻射面に高輻射層が形成された真空加熱炉であって、　前記加熱源が前記真空容器内に設けられ、前記真空容器の内壁面にも高輻射層が形成されていることを特徴とする真空加熱炉。【請求項２】　前記真空容器内の前記加熱源に接するトレイを有し、前記加熱源と前記トレイの接触部には前記第１輻射面に形成される前記高輻射層が形成されていないことを特徴とする請求項１に記載された真空加熱炉。【発明の詳細な説明】【技術分野】【０００１】　本発明は、真空容器内に収納される被処理物に所定温度以下の加熱源の輻射熱を用いて加熱処理を行う真空加熱炉に関するものである。【背景技術】【０００２】　真空中で被処理物を加熱する真空加熱処理は、さまざまな分野で利用されている。真空加熱処理においては、加熱する温度は様々であるが、比較的低温で処理する用途もある。例えば、液体を含んだ被処理物を乾燥させる方法として、真空乾燥が知られている。温風乾燥では、表面からの蒸発が主となるため、多孔質状の物質で、内部にまで液が浸透している場合には、乾燥に時間がかかる。このような物質を被処理物として真空乾燥を行うと、短時間で乾燥させることができる。つまり、真空加熱炉は真空乾燥装置としても利用できる。【０００３】　真空乾燥装置としては、例えば特許文献１がある。特許文献１に係る真空乾燥装置は、真空容器中に垂直回転軸で回転するバスケットが設けられており、被処理物はそのバスケット内に載置される。実際に動作させる際には、被処理物が載置されたバスケットを垂直回転軸周りに回転させ、加熱ランプで輻射加熱を行う。【０００４】　特許文献１の真空乾燥装置では、蒸発熱による被処理物の温度の低下を防止するために、加熱ランプが設けられている。真空中では、対流による熱の伝導は行えないので、輻射による熱で被処理物を加熱するものである。【０００５】　一方、特許文献２には、真空装置内で被処理物を載置する試料載置棚に温度調節用流体が流れる流体流路を形成する発明が開示されている。これは試料載置棚と接触する被処理物に、接触による熱伝導で熱を伝えるものである。【先行技術文献】【特許文献】【０００６】【特許文献１】特開２００７－１３２５５０号公報【特許文献２】特開２０１１－０４３２７５号公報【発明の概要】

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