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(2) JP 2021-165769 A 2021.10.141020304050【特許請求の範囲】【請求項１】　対象物上の照射面に変調ビームを照射する光学装置であって、　レーザ光を長軸方向に長い線状の平行ビームに整形する照明光学系と、　前記平行ビームを変調ビームに変調する光変調器と、　前記変調ビームを対象物の照射面に導く投影光学系と、を備え、　前記照明光学系は、前記レーザ光の短軸方向および前記長軸方向における強度分布をガウス分布から変換して、前記光変調器の変調面における前記平行ビームの前記短軸方向および前記長軸方向の強度分布をトップハット分布とするビームシェイパを備え、　前記投影光学系は、　第１レンズと、　前記第１レンズよりも前記変調ビームの進行方向に位置する第２レンズと、　前記第１レンズよりも前記変調ビームの進行方向に位置する第３レンズと、　前記第１レンズ、前記第２レンズおよび前記第３レンズよりも前記変調ビームの進行方向に位置する第４レンズと、を備え、　前記長軸方向について、前記第３レンズおよび前記第４レンズにより前記変調面と前記照射面とが光学的に共役とされ、　前記短軸方向について、前記第１レンズ、前記第２レンズおよび前記第３レンズにより、前記変調面と前記第４レンズの前側焦点位置とが光学的に共役とされ、前記第４レンズは、前記前側焦点位置におけるトップハット分布のビームを前記照射面に集光させることを特徴とする光学装置。【請求項２】　請求項１に記載の光学装置であって、　前記第３レンズは前記第２レンズよりも前記変調ビームの進行方向に位置することを特徴とする光学装置。【請求項３】　請求項１または２に記載の光学装置であって、　前記投影光学系は、　前記第３レンズと前記第４レンズとの間に位置し、前記光変調器からの長軸側の非０次回折光を遮る長軸側遮光部と、　前記第１レンズと前記第２レンズおよび前記第３レンズとの間に位置し、前記光変調器からの短軸側の非０次回折光を遮る短軸側遮光部と、をさらに備えることを特徴とする光学装置。【請求項４】　請求項１ないし３のいずれか１つに記載の光学装置であって、　前記光変調器は、２次元配列された複数の変調素子を備えることを特徴とする光学装置。【請求項５】　請求項４に記載の光学装置であって、　前記光変調器はＰＬＶであることを特徴とする光学装置。【請求項６】。炒卧煨巫爸盲扦ⅳ盲、　請求項１ないし５のいずれか１つに記載の光学装置と、　前記光学装置へと前記レーザ光を出射するレーザ光源と、　前記光学装置からの前記変調ビームが照射される前記対象物であり、前記変調ビームを造形材料上で走査する走査部と、を備えることを特徴とする３次元造形装置。【請求項７】