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188宝金博页面版: 马来酰亚胺—苯乙烯共聚物类型的光刻胶

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内容提示: 感 光 材 牵} 991年第 1 马来酰亚胺-_ -苯 乙烯共聚物类型的光刻胶 山西大学 陈晃斌 太原师专 沈周抄 摘要:近几年用马来酰亚胺一苯乙烯共 聚物作为粘合剂应活性物 的光剡腚体系有很 多研 究。本文综 述 了这 方面的研 究进展 。 大规模集成 电路的发展以及光刻蚀印刷 业的飞速前进,使光刻腔的研究处于方兴未 艾之势,各种光致抗蚀剂体系不断出现“ ” 。 有的虽然还处于探索阶段,但已显示出优 良 的性能} 有的已用于实际。马来酰亚胺一苯 乙烯共聚物体系届其中的一种. 1.正性光敏抗蚀剂 1987年,F .J .We]gert等 介 绍 了 一 种新型、高感光速率的正性光致抗蚀剂...

文档格式:PDF | 页数:4 | 浏览次数:289 | 上传日期:2015-12-14 16:07:08 | 文档星级:
感 光 材 牵} 991年第 1 马来酰亚胺-_ -苯 乙烯共聚物类型的光刻胶 山西大学 陈晃斌 太原师专 沈周抄 摘要:近几年用马来酰亚胺一苯乙烯共 聚物作为粘合剂应活性物 的光剡腚体系有很 多研 究。本文综 述 了这 方面的研 究进展 。 大规模集成 电路的发展以及光刻蚀印刷 业的飞速前进,使光刻腔的研究处于方兴未 艾之势,各种光致抗蚀剂体系不断出现“ ” 。 有的虽然还处于探索阶段,但已显示出优 良 的性能} 有的已用于实际。马来酰亚胺一苯 乙烯共聚物体系届其中的一种. 1.正性光敏抗蚀剂 1987年,F .J .We]gert等 介 绍 了 一 种新型、高感光速率的正性光致抗蚀剂。这 种光致抗蚀_ 荆是将一个巯基酸光嫁接到一个 具有悬垂烯键的聚合物粘结剂上。作为粘结 剂的是甲基丙烯酸甲酯。1卜琉基十二 烷 酸 是业经试验过 的最好的琉基 酸,将 它 引 入 詹,体系可以在高感光速率下产生光敏抗蚀 性,并且有某些较优的物理性能。碱的水溶 液仅能洗去未曝光区域的巯基酸,而曝光区 域刚完整地显影出来。该材料 在 光 密 度为 l mJ /em 时有着超乎寻常的感光速率,并能 形成清晰的像。但是,韧性差一些J 在第二 次像的形成性能上,有时表现反常。 为 了改进,F 、J 、We err 用马来酸 酐一苯乙烯 (sMA ) 代替 了甲基 丙 烯 酸 甲 酯。悬垂烯键是通过用不饱和胺制马来酰盈 胺的同时而引入的, H — c H } H c }王 一—’ c H — c H ~CHC H2} 山 j l j j j j O八 O o cam n八 N o c eH5 u J 选择合适的不饱和侧链,采取恰当的苯 乙烯 与马来酸酐的比例,控制聚台物的分子量, 可以使我们得到光化学性能及机械性能台适 的材料。一般选择分子量在2000左右,苯乙 烯:马来酸酐为1:】、2:1或3:】的共聚物,然 后用仲胺作用,形成马来酰亚胺 当然,在 光刻胶的配方中还 有其他 的 组分,如11- - 巯 基十二烷酸、二甘醇二 乙酸酯塑料以及引发 剂苯偶酰二甲基缩酮等。用这种材料制成的 片媵的坚韧性明显改善.在水涪剂中就能显 影,并可在与第一次成像祀同的曝光显影条 件下第二次成像。正性光剡胶形成像见图1。 l ● ‘ — — 一 一 光劐腔 词 瘊 扳 嗥光后的光判腔 显暂后的光捌驻 劐 蚀后 第二f 霉 魁 第二 f戈啦津 幕二 次 显嚣 目 1 正性光刻脓形成复合像 具体实验方法如下t 将苯乙烯一马来酸酐的1:l 共 聚物l 300 一~ 一一一一 一一 维普资讯 http://www.cqvip.com

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