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188宝金博页面版: 基体组织对NiP合金电沉积行为的影响

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内容提示: 19 620 0 4 年全国电子电镀学术研讨会论文集基体组织对N i—P 合金电沉积行为的影响邵光杰1. 董海峰1, 王风彦1, 安茂忠2, 姚枚1( 1燕山大学环境与化学工程学院, 河北, 秦皇岛1x 661D 4 )( 2哈尔滨工业大学应用化学系, 黑龙旺, 哈尔滨150 0 0 6 )【摘要]对N i—P 台金在碳钢基体表面的韧期沉积行为进行了观察与分析, 发现电沉积N i—P 合金镀层的初期沉积行为受到基体材料组织的影响。 N i—P 合会镀层优先在晶界及渗碳体表面形核。 由于珠光体组织中含有渗碳体相且具有比较高的晶界密度, 因而在沉积初期镀层优先在珠光体表面形棱和生长。 镀层在基体表面是以纳米尺度的晶粒聚集在一起形成的多晶体形式存在的...

文档格式:PDF | 页数:5 | 浏览次数:11 | 上传日期:2014-08-17 19:07:59 | 文档星级:
19 620 0 4 年全国电子电镀学术研讨会论文集基体组织对N i—P 合金电沉积行为的影响邵光杰1. 董海峰1, 王风彦1, 安茂忠2, 姚枚1( 1燕山大学环境与化学工程学院, 河北, 秦皇岛1x 661D 4 )( 2哈尔滨工业大学应用化学系, 黑龙旺, 哈尔滨150 0 0 6 )【摘要]对N i—P 台金在碳钢基体表面的韧期沉积行为进行了观察与分析, 发现电沉积N i—P 合金镀层的初期沉积行为受到基体材料组织的影响。 N i—P 合会镀层优先在晶界及渗碳体表面形核。 由于珠光体组织中含有渗碳体相且具有比较高的晶界密度, 因而在沉积初期镀层优先在珠光体表面形棱和生长。 镀层在基体表面是以纳米尺度的晶粒聚集在一起形成的多晶体形式存在的。 随着施镀时间的延长, 纳米晶多晶体在侧向二维生长的同时, 在多晶体聚集的表面上也进行着i维方向的新的一层多晶体的生长。[ 关键词]N i—P 合会基体组织沉积行为电沉积S tu d yo n th e in itia le le c tr o —d e p o sitio nb e h a v io r o fN i—Pa llo yS h a oG u a n g jie‘D o n g H a if e n 9 1 W a n g F e n g y a n l A n M a o zbo n 9 2Y a oM e il( 1 D e p a r lm e n to fe n v Jr o n ln e n t&c h e m ic a le n g in e e r in g , Y a n sh a n U n iversit3r, Q in h u a n g d a o 0 6 6 0 0 4 )( 2 D e p a r t m e n to fa p p ly e h e n tistr y , H a e r b inin stitu te o fte c h n o lo 舒', H a e r b in150006)In th isp a p e r , stu d yO N th ein itia le le ctr o —d e p o sitio nb e h a v io r o f N i—Pa llo yo n th e su r f a ce o f 4 5 steel sh o w s th a tit is in f lu e n c e db yth e m icr o str u ctu r e o f m a tr ixm a te r ia l. A s th ep ea rlitein it c o n ta in s c e m e n titep h a sea n dh a sh ig hc r y s-ta lb o u n d a r y d e n sity , th en u clea tio n a n dg r o w tho fd ep o sits p r ef erto O c c u r a t th ep ea rlitea t th eb e g in n in g d u r in g d eposi—tio n o nth e su r f a ceo fa n n e a le d4 5 ste e l. T h ec o a tin ge x ists inf o r mo fna no?—polycrysta l la y ers c o m p o se db y g a th e r in go fn a n o —siz e dcry sta ls. W ith p la tin gtim eg o in gO n , th ef la n O —p o ly ery sta l g a th e r in g g r o w sin tw od im e n sio n s. a n d th e u e wn a n o —p o ly c r y sta l la y er a p p e a r s sim u h a n e o u slyo n th ef o r m er lyf o rm edn a n o —p o ly e r y sta lsu rf a ce.K e yw o r d s: N i—Pa llo y : In itia l e le ctr o —d e p o sitio nb e h a v io r ; e le c tr o —d e p o sitio n1前言电沉积N i—P 合金镀层是一种应用性很强的表面功能性镀层, 除了要求镀层本身要具有所需要的性能外, 镀层与基体材料的结合情况将直接影响镀层的使用性能。 因此镀层与基体的结合情况是众多工程技术人员所关心的问题。 另一方面, 通过对电沉积和化学沉积N i—P 合金的初期沉积行为的研究表明, 基体材料的组织结构对镀层的均匀性、 致密性、 镀层的晶粒尺寸和取向有一定影响, 当然也显著地影响镀层与基体材料之间的结合[ 1—6 ]。 为此, 许多研究者对N i—P 合金的初期沉积行为进行了观察和研究[ 5—10 ], 取得了许多有意义的结果。 但是, 这些研究所用基体材料与常用的实际材料有一定的区别, 另外, 关于N i—P 合金初期沉积行为的研究报道多是针对化学镀N i—P 合金镀层, 对于电沉积N i—P 合金的初期沉积行为的研究报道比较少见。 因此, 关于电沉积N i—P 合金镀层初期沉积的行为还需要更进一步深入的进行研究。2 实验方法选用经退火和调质处理的4 5钢和退火态T 12钢作为基体材料, 研究它们表面施镀不同时间的成分分布。 测试试样经表面抛光及金相腐蚀后, 立即进行施镀, 镀后试样经蒸馏水洗净, 并用无水乙醇清洗三遍,经热风吹干后进行观察。 表面成分分布在JX A 8 8 0 0 R型电子探针仪上进行。为了^研究电沉积N i—P 合金镀层在基体表面的初期沉积形貌及结构, 将经过退火和调质处理的4 5钢打磨成厚度小于30 阻m 的薄片, 然后按透射电镜分析要求切制成‘P 3圆片, 用C E 一10 ch em ica l双喷减薄仪在高氯酸: 正丁醇: 酒精= 1: 2: 7 的溶液中减薄后, 将试样经化学除油一水洗一酸洗活化一水洗后, 施镀不同时间, 然后进行T E M 观察。

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