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188宝金博页面版: 高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析

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内容提示: 书书书 第21卷第8期。玻埃埃鼓辏冈虑考す庥肓W邮郑 l.21, No.8。粒酰纾,2009。 IGH POWER LASER AND PART ICLE BEAMS文章编号:。保埃埃 4322(2009)08 1153 04高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析余 颖1, 赵 峰2, 李文博2, 张 林3, 袁晓东3(1. 四川 大学 建筑与环境学院, 成都610065;。玻鹂肪彻こ逃邢薰 , 广东 深圳518109;3. 中 国 工程物理研究院 激光聚变研究中 心 , 四川 绵 阳621900)   摘 要: 研究了 高功率激光装置光路中 的分子级污染程度。 采用专用空气采样动力 设备及吸附管, 在一定时间 内 对光路中 的空气进行采样并作 痕量分析后, 得出 了 卤 素、 含硫化 合物、 可 溶 性胺类 和 氨、 碳氢 化 合物(C6 ~C16有机物)4类物质在打靶 前后的数密度变...

文档格式:PDF | 页数:4 | 浏览次数:8 | 上传日期:2014-12-31 18:49:30 | 文档星级:
书书书 第21卷第8期。玻埃埃鼓辏冈虑考す庥肓W邮郑 l.21, No.8。粒酰纾,2009。 IGH POWER LASER AND PART ICLE BEAMS文章编号:。保埃埃 4322(2009)08 1153 04高功率激光装置中的气载分子污染物测量和分析余 颖1, 赵 峰2, 李文博2, 张 林3, 袁晓东3(1. 四川 大学 建筑与环境学院, 成都610065;。玻鹂肪彻こ逃邢薰 , 广东 深圳518109;3. 中 国 工程物理研究院 激光聚变研究中 心 , 四川 绵 阳621900)   摘 要: 研究了 高功率激光装置光路中 的分子级污染程度。 采用专用空气采样动力 设备及吸附管, 在一定时间 内 对光路中 的空气进行采样并作 痕量分析后, 得出 了 卤 素、 含硫化 合物、 可 溶 性胺类 和 氨、 碳氢 化 合物(C6 ~C16有机物)4类物质在打靶 前后的数密度变化。 结果显示: 除含硫化合物外, 其余3种 物 质数密度 超过了 美国N IF标准的上限, 其中 氨和可溶性胺类、碳氢化合物的数密度超过较多; 卤 素、含硫化合物、氨和 可溶性胺类的数密度在打靶 后比 打靶 前有所降低, 而碳氢化合物的 数密度在打靶 后比 打靶 前有所升高。 结果表明 在该装置中存在比 较严重的气载分子污染 物 污染。 分析了 气载分子污染 物 数密度 变化 的 原因 以 及可 能 的 产 生源, 并对如何去除这些气载分子污染物提出 了 建议。   关键词 : 高功率激光装置; 光学元件损 伤; 分子级污染物; 痕量分析   中 图分类号:  X 502       文献标志码:  A   高功率激光装置中包括了400多个大口 径光学元件, 除了部分安装在密封的真空箱体内 , 大部分透射和反射镜以 及承载这些光学元件的金属框架都曝露在空气中。 尽管所有光学元件是在百级(粒径大于或等于0.5μm粒子的最大数密度为3 530 m-3)环境中清洗、装校, 整个装置在万级(粒径大于或等于0.5μm粒子的最大数密度为353 000 m-3)的环境中运行, 但一直存在着激光打靶后尘埃粒子突然增加到10万级(粒径大于或等于0.5μm粒子的最大数密度限值为35 300 000 m-3)或者更高的现象, 打靶 结束后尘埃粒子很快消 失。 长时间运行后, 发现玻璃表面出 现不可挥发性的物质。 研究表明[1]: 激光装置内 的密封材料、钕玻璃片包边的粘接材料以 及片腔内 其它材料在高强度氙灯辐照下会产生热解作用, 形成大量的μm级悬浮粒子(气溶胶)。 悬浮粒子的直径为亚μm到μm量级, 在缓慢的沉降过程中容易凝结在元件表面, 造成元件表面污染, 随后在强光作用下可导致片表面损伤。 这种μm量级的污染可以 通过高效过滤装置以 及高纯氮气的吹洗来实现去除和稀释。 但通过对N IF等国外文献资料[2 4]的进一步研究, 我们认为在激光装置中还存在更加微。ǎ睿砹考叮 的分子级污染物(AMC), 并已 经对整个装置构成:, 其尺寸比尘埃粒子要小得多, 对整个激光装置的影响大致是损坏透镜[4 5]及影响化学减反膜的透射率[6]。   本文针对激光原型装置运行中出 现的污染现象进行测试, 了解装置光路中AMC的情况, 分析光路空气中AMC的主要种类和数密度, 找出 了AMC的产生源, 尽可能降低其带来的:, 为今后的研究工作提供实验数据。1 测试方法   目 前所涉及的AMC分析集中于酸性污染物(MA)、染物(MB)、有机可凝性污染物(MC) 和部分掺杂性污染物(MD)。 从分析学的角 度分为无机分析和有机分析。 对于AMC痕量分析, 在空气中采集污染物时抗背景干扰尤为重要, 因此需在洁净室中按照严格的洁净室规范完成采样准备工作。1.1 无机物采样   采用能在较大幅度内 自 动背压的无污染动力 系 统— — —SKC PCXR 8专业空气采样泵, 对采样时间 精确 控制, 采样泵与高度洁净的吸附管相连接。   将准备好的采样装置置于采样区域采样, 使目 标区域的空气以 一定的流速/流 量通过液体吸收剂, 吸收空气中的可溶性气态无机分子污染物(大多数是MA和MB)。 其实质是, 在一定条件下, 无机AMC分子与水分子或所添加的专用吸收剂分子或离子发生键合、电 离反应, 从而生成相应的阴阳离子。收稿日 期:2008 12 25;   修订日 期:2009 05 10作者简介 : 余 颖(1969-) , 女, 硕士, 从事洁净空调、分子过滤研究;im ag e 946@163.com。

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