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188宝金博页面版: 一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用[1]

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内容提示: (19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202110600370.9(22)申请日 2021.05.31(71)申请人 浙江润禾有机硅新材料有限公司地址 313200 浙江省杭州市德清经济开发区伟业路102号(72)发明人 宋春燕 唐菊 许银根 李勉 章明莲 (74)专利代理机构 杭州恒翌专利代理事务所(特殊普通合伙) 33298代理人 王从友(51)Int.Cl.A01N 25/30 (2006.01)C08G 77/46 (2006.01)C07F 7/08 (2006.01)B01F 17/54 (2006.01) (54)发明名称一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用(57)摘要本发明涉及有机硅表...

文档格式:PDF | 页数:9 | 浏览次数:11 | 上传日期:2023-08-26 02:48:55 | 文档星级:
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202110600370.9(22)申请日 2021.05.31(71)申请人 浙江润禾有机硅新材料有限公司地址 313200 浙江省杭州市德清经济开发区伟业路102号(72)发明人 宋春燕 唐菊 许银根 李勉 章明莲 (74)专利代理机构 杭州恒翌专利代理事务所(特殊普通合伙) 33298代理人 王从友(51)Int.Cl.A01N 25/30 (2006.01)C08G 77/46 (2006.01)C07F 7/08 (2006.01)B01F 17/54 (2006.01) (54)发明名称一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用(57)摘要本发明涉及有机硅表面活性剂新材料技术领域,尤其涉及一种低泡沫的有机硅表面活性剂及其制备方法和应用。一种低泡沫的有机硅表面活性剂,其结构为如图1所示,其中:m=1?10,n=0?10,x=2?9,a=1?20,b=0?20,R=H、CH 3 、CH 3 COO、CH 2 CH 3 、CH 2 CH 3 (CH 3 )、(CH 2 )2 CH 3 、(CH 2 ) 3 CH 3 或(CH 2 )2(CH 3 )2 。本发明提供一种低泡沫的有机硅表面活性剂,解决了现有技术中泡沫过量的问题。本发明的方法不需要溶剂,可以减少有机挥发物的排放,实现绿色生产。权利要求书2页 说明书5页 附图1页CN 113317315 A2021.08.31CN 113317315 A

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