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    188宝金博页面版: SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位

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    内容提示： 鼍 电 子 工 业 毫 用 设 备 ·企业之窗· 的杰 出性能使 Silvia 系统首次将 每片硅片 的通 孔 刻蚀成本降低到 10 美元 以下 ，帮助芯片制造商将 先进的 3D— IC 设计 引入市场 ， 进而推动未来高性能 移动器件的发展。 新 的超 高 密 度 等 离 子 源 能 将 Silvia 系 统 的硅 刻蚀 速 率提 高 40％， 同时保 持 系统 标 志 性 的精确 轮 廓控制和平滑垂直的通孔侧壁， 这对于后续 的高质 量覆 盖 和填 充薄 膜 的沉 积 具有 至 关重 要 的意 义 。 此 外， Silvia 系统一流的速度和精确度使其成为其它 成本敏感型 3D． IC 封装应用 的理想选择 ， 譬如“ 通 孔呈...

    文档格式：PDF | 页数：1 | 浏览次数：63 | 上传日期：2015-03-24 22:13:05 | 文档星级：
    鼍 电 子 工 业 毫 用 设 备 ·企业之窗· 的杰 出性能使 Silvia 系统首次将 每片硅片 的通 孔 刻蚀成本降低到 10 美元 以下 ，帮助芯片制造商将 先进的 3D— IC 设计 引入市场 ， 进而推动未来高性能 移动器件的发展。 新 的超 高 密 度 等 离 子 源 能 将 Silvia 系 统 的硅 刻蚀 速 率提 高 40％， 同时保 持 系统 标 志 性 的精确 轮 廓控制和平滑垂直的通孔侧壁， 这对于后续 的高质 量覆 盖 和填 充薄 膜 的沉 积 具有 至 关重 要 的意 义 。 此 外， Silvia 系统一流的速度和精确度使其成为其它 成本敏感型 3D． IC 封装应用 的理想选择 ， 譬如“ 通 孔呈现刻蚀 ”， 它需要快速、 高度一致地从硅片背面 去除 大量 的硅 。 根 据 市 场 研 究 公 司 Gartner Dataquest 的 报 告 ， 从 2009 年全 球系统 出货 收入来看 ， 应用材 料 公 司在 T SV 刻蚀和 硅 片级封 装两个 市场 均排 名 第 一 。 应 用 材 料 公 司 是 唯 一 一 家 拥 有 完 整 机 台 系 — 址 — 址 ． S ． 址． 驰 S止 ． 址． S也． ． 址 ． S 址 S也 — 址 — 喜t 列可 以涵 盖所有 T SV 制造流 程 的公司 ，包 括刻 蚀 、 CV D 、 PV D 、 ECD 、硅 片 表 面 预 处 理 和 CMP 。 应用材 料公司 的 Maydan 技术 中心具有独特 的验 证 完 整 工 艺 流 程 的 能 力 ， 能 够 帮 助 客 户 降低 风 险 ， 加 快 客 户 探 索 进 程 ， 确 保 从 研 发 到 量 产 的 顺 利 过 渡 。欲 了解 更 多信 息 ， 请 访 问 www． applied． m aterials ． c om ／ tsv 。 应 用 材 料 公 司 ( 纳 斯 达 克 ： AM AT ) 是 一 家 全 球领先 的高科技企业 。 应用材 料的创新设备 、 服务 和软件被广泛应用于先进 半导体芯片、平 板显示 器和太 阳能光伏产品制造产 业。我们 的技 术使智 能 手 机 、平 板 电视和 太 阳 能 面板 等创 新 产 品 以更 普 及 、更 具 价 格优 势 的方 式 惠及 全 球 商 界 和 普 通 消费者 。 在应用材料 ， 我们应用今天的创新 去成就 明天的产业 。欲 了解更多信息 ， 请访 问：w、 vw． 印一 p liedm aterials ． c or n 。 ． 址． s 吐 -． 址 ． 址． S止． 址 ． 址 ． 址 土 ． — 喜 止 — 址— 址 — S ． S ． S屯 善 屯 SUSS MicroTec 公 司进 一步巩 固其光刻设备 在技术和市场上 的领先地位 SU SS M icroTec AG 的 全 资 子 公 司 HamaTech APE GmbH & Co．KG 宣 布 ， 已 接 到 几 十 份 MaskTrack Pro 设 备 订 单 。 MaskTrack Pro 于 2009 年投 产 ， 是用于 下一代光刻领 域 的完整 掩模流程 平 台。 对于亚 22 nm、 193 nm 浸 没式 光刻 、 E UV L 深 紫外光刻 、 NIL 接触 式纳 米压 印技术 等先 进光 刻 工艺 的掩模版 ， MaskTrack Pro 是 目前 已知唯一 可 以实 现清 洗 、 烘 烤 和 显 影 步骤 的 设 备 。MaskTrack Pro 结合物理和化 学清洗技术 ，能有效 去除有机 和无机污染物 ，而不破坏易受损 的掩模版线条和 材 料结构 。MaskT rack Pro 使用独特的 A Sonic~ 专 利 显 影技 术 ， 以及 先进 的 曝光 后 烘 烤 方 式 9能 几 近 完 美地实现 关键 尺寸 的一致性 ，这对于亚 22 nm 双 重 图形技术尤为重 要，可 以沉着应对未来先进 光 刻技 术 的挑 战 。 “ 下 一代光刻技 术发展 ，促使 MaskTrack Pro 的市场 加速发展 。 2011 年初 ， MaskTrack Pro 将被 诸 多全 球领先 的公 司采 用 。 ”， HamaTech 首席执 行 官 Wilma K oolen— Hermkens 介绍 道 ， “ 我们 十分 高兴地看 到 ，多 家客户 已经采购 了我们 的设备 。 我 们 希 望 MaskTrack Pro 能 成 为 业 界 的 标 准 配 置 设 备 。 ” “ 实 现 掩模 版 完 整 流 程 是 MaskTrack Pro 平 台设计 的中心 思想 ， 对先进 光刻技术起 到 了重 要 作 用 。 ” SUSS MicroTec 的总 裁 监 首 席 执 行 官 Frank A verdung 说 ： “ 感谢 我们 的客 户和合作伙伴 的共 同 努 力 ， 我 们 研 发 出 了 MaskTrack Pro 系 统 ， 以迎接 下一代 光 刻技 术完 整掩 模 流程 的苛 刻挑 战 。 ”

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